인텔, 10nm와 7nm는 좋지만 서두르지 않을 것

인텔과 삼성은 올해 14nm FinFET 공정을 사용해서 고급 제품을 생산하며, TSMC는 올 하반기는 되야 16nm FinFET 공정을 도입하지만, 그 다음인 10nm에선 인텔을 추격해 2017년에는 양산이 가능할 것이라 보고 있습니다.

 

그 러나 인텔은 서두르지 않을 듯 하네요. 10nm 공정 제조 설비의 설치를 오히려 뒤로 미루고 있습니다. 인텔은 10nm와 7nm 공정이 트랜지스터 밀도를 높이고, 더 저렴한 가격으로 제조가 가능하다고 보지만, 인텔이 서두르지 않는 이유는 새로운 공정의 투자에 많은 돈이 필요하기 때문입니다.

 

계획대로라면 인텔은 앞으로 2년 안에 10nm 공정을 도입할 것이지만 14nm 공정이 작년에 한번 연기됐으며, 원래 인텔은 올해 3월에 이스라엘이 10nm 공정 제조 설비를 설치할 계획이었으나 올해 12월로 늦춰진 바 있습니다.

번역 및 2차 출처 기글 하드웨어